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王恩泽; 韩博;
沈阳地铁集团有限公司运营分公司 辽宁省沈阳市110000;
化学机械抛光; 非均匀性; 因子分析;
机译:化学机械抛光中垫的特性及垫磨损对材料去除均匀性影响的实验分析
机译:一种提高LCOS工艺中化学机械抛光材料去除均匀性的方法
机译:超声椭圆振动辅助化学机械抛光材料的材料去除模型,脆性材料
机译:粒子分布表征化学机械抛光材料去除均匀性
机译:化学机械抛光中材料去除和表面粗糙度的颗粒模型。
机译:超声化学机械抛光与超声研磨相结合的单晶碳化硅晶片材料去除及表面生成研究
机译:石菖蒲化学机械抛光中si3N4旋转曲面工件材料去除率的实验研究
机译:强场和非均匀性中电子气(非中性等离子体)的动力学方程
机译:改善进行化学机械抛光的材料去除不均匀性的方法
机译:化学机械抛光设备化学机械抛光性能的评估方法,材料表面的表面均匀性评估方法以及浆状化学材料的性能评估方法
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