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杨和梅; 姚正军;
南京航空航天大学材料科学与技术学院,南京,210016;
南京农业大学工学院,南京,210031;
Al2O3薄膜; 基片温度; 反应溅射; 电阻率;
机译:衬底温度对真空热蒸发法制备CuAlS2薄膜电阻率和表面形貌的影响
机译:衬底温度对热蒸发锰薄膜电阻率的影响
机译:衬底温度对激光烧蚀IrO2薄膜结构和电阻率的影响
机译:用R.F.研究LaNiO_(3-δ)薄膜的RT电阻率。在不同衬底温度下具有不同氧分压百分比的磁控溅射
机译:氢退火和衬底温度对射频溅射氧化锌薄膜性能的影响
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:溅射功率和衬底温度对Al2O3掺杂ZnO薄膜性能的影响
机译:mn和mn-mgF sub 2薄膜电阻器的衬底温度和电阻率
机译:希望控制微观组织的影响
机译:使用相同的低电阻率的金属薄膜和液晶显示装置,以及使用该方法制造低电阻率的金属薄膜的方法和液晶显示装置
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