纳米薄膜沉积技术制成器件保形薄膜

摘要

一种纳米薄膜沉积工艺已由美国Tegal公司申请专利。利用这种工艺可制成势垒、铜籽晶和高K值电介质用于微处理器和存储器件。该系统和方法以前所未见的能力进行纳米薄膜沉积(NLD)。与原子层沉积相比，NLD可获得超高保真生长；而与化学气相沉积相比，NLD则生产能力更强。NLD可选择多种前躯体，而且可用于制造复杂的、