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张东平; 乐德芬; 胡一贯;
中国科技大学物理系,合肥 230026;
化学气相沉积(CVD); 金刚石薄膜; 腐蚀;
机译:通过在核和生长面上生长通过静态抗CVD金刚石薄膜的热导率
机译:通过设计的SWP-CVD具有各种工作压力的CVD纳米晶金刚石薄膜的低温生长
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机译:通过DC-PCVD将硼掺杂金刚石薄膜合成掺杂金刚石薄膜
机译:磷掺杂的n型和氢掺杂的p型CVD金刚石薄膜的光电研究。
机译:新型金刚石薄膜合成策略:无氢的微波等离子体CVD法制备甲醇和氩气氛
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机译:金刚石薄膜上碳纳米管生长的三种不同化学气相沉积(CVD)技术的比较研究。
机译:奥氏体不锈钢的抗应力腐蚀性能研究
机译:制造自由静态CVD多晶金刚石薄膜的装置和方法
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