退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
叶枝灿; 徐东; 王芸; 王莉; 吴茂松;
上海交通大学,微纳科学技术研究院,微米/纳米加工技术国家重点实验室,薄膜与微细技术教育部重点实验室,上海,200030;
霍尼韦尔上海传感器实验室,上海,200030;
光刻胶; 回流; 平面化; 牺牲层;
机译:抗蚀剂回流工艺的光刻胶粘合效果
机译:用于MEMS制造的光刻胶牺牲层的平面化
机译:基于高斯工艺进行化学机械平面化预测不确定性的虚拟计量方法
机译:平面化和后平面化工艺中的焊盘晶圆和刷子晶圆接触特性。
机译:硬质光刻胶作为180°C以下表面微加工工艺的牺牲层
机译:高级介电和金属化学机械平面化的工艺优化和基本消耗品特性
机译:NUpRO工艺通风口/ mCO检查/安全阀 - 防止从工艺通风口回流到mCO。
机译:光刻胶回流增强了工艺窗口,可用于随机,隔离,半致密和其他非致密触点
机译:用于去除掺杂低钾碳的氧化硅介电材料中的光刻胶的工艺以及用于去除光刻胶残留物的工艺以及去除光刻胶的工艺
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。