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磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展

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简要评述了磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜的研究进展的现状,以及磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜过程中工艺参数对薄膜的结构和性能的影响,展望了氮化碳研究的发展趋势.

著录项

来源
《材料导报》 |2005年第z1期|372-374|共3页
作者
陈春; 刘军; 毕凯; 陈志刚; 李忠学; 张兴国;
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作者单位

江苏大学;

中国人民解放军镇江船艇学院;

江苏工业学院;

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正文语种 chi
中图分类
关键词
磁控溅射; 氮化碳; 薄膜;

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