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溅射气氛对氟碳疏水薄膜表面结构及性能的影响

     

摘要

以聚四氟乙烯(PTFE)为靶材,用射频磁控溅射方法在玻璃衬底上制备了氟碳高分子薄膜,并对其结构和表面性能进行了研究.由XPS的结果可知,构成薄膜的大分子由-CF-、-CF2-和-CF3等组分组成.随着氩气压强的增加,缺氟基团-C-增加,而-CF2-、-CF3等富氟基团以及F/C均减少;随着氮气偏压的增加,-CF-、-CF2-和-CF3以及F/C和N/C增加.同时探讨了溅射气氛对薄膜表面形貌、疏水性能及表面能的影响.

著录项

  • 来源
    《材料导报》|2006年第6期|140-143|共4页
  • 作者单位

    武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070;

    武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070;

    武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070;

    武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070;

    武汉理工大学硅酸盐材料工程教育部重点实验室,武汉,430070;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 化学;
  • 关键词

    磁控溅射; 薄膜; 聚四氟乙烯; 疏水性;

  • 入库时间 2022-08-17 16:23:42

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