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高密度高磁导率高饱和磁感应强度MnZn铁氧体的研究进展

     

摘要

综述了高密度高磁导率高饱和磁感应强度MnZn铁氧体的研究现状,阐述了配方体系、预烧工艺、添加剂、成型和烧结工艺等因素对MnZn铁氧体的密度、磁导率和饱和磁感应强度的影响,并指出了高密度高磁导率高饱和磁感应强度MnZn铁氧体制备技术的发展趋势.

著录项

  • 来源
    《材料导报》|2007年第11期|30-33|共4页
  • 作者单位

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054;

    成都电子机械高等专科学校集成电路制造工程研究所,成都,610031;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 金属学与热处理;
  • 关键词

    MnZn铁氧体; 进展; 密度; 磁导率; 饱和磁感应强度;

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