磁控溅射技术制备CrAlN涂层的研究进展

金浩; 张莹莹; 时卓; 张罡

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磁控溅射技术制备CrAlN涂层的研究进展

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概述了采用不同磁控溅射技术制备CrAlN涂层的国内外研究现状与发展趋势,重点分析了CrAlN涂层的结构、力学性能、涂层氧化行为与耐腐蚀性能.提出了不同磁控溅射制备工艺的进一步优化结合和新型磁控溅射制备工艺的研究是未来磁控溅射技术制备CrAlN涂层的新趋势,在进一步提高CrAlN涂层性能的基础上,需深入探究该类硬度涂层的工业新应用潜力.

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来源
《材料导报》 |2016年第3期|54-59|共6页
作者
金浩; 张莹莹; 时卓; 张罡;
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作者单位

沈阳理工大学装备工程学院,沈阳110159;

沈阳工业大学材料科学与工程学院,沈阳110870;

辽宁省轻工科学研究院,沈阳110036;

沈阳工业大学材料科学与工程学院,沈阳110870;

辽宁省轻工科学研究院,沈阳110036;

沈阳理工大学材料科学与工程学院,沈阳110159;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类真空镀与气相镀法;
关键词
磁控溅射; CrAlN; 涂层;

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