机译:反应直流磁控溅射法制备CrN / CrAlN纳米多层涂层
Surface Engineering Division, National Aerospace Laboratories, Post Bag No. 1779, Bangalore 560017, India;
CrN and CrAlN films; CrN/CrAlN nanolayered multilayers; magnetron sputtering; structural and mechanical properties; thermal stability;
机译:化学镀镍中间层对反应直流磁控溅射制备单层CrN,TiN,TiAlN涂层和纳米TiAlN / CrN多层涂层电化学行为的影响
机译:反应性直流磁控溅射制备单层CrN,TiN,TiAlN涂层和纳米层TiAlN / CrN多层涂层的电化学行为
机译:活性直流磁控溅射工艺制备的纳米TiAlN / CrN多层涂层的腐蚀行为
机译:CRN / CRALN / CR_2O_3多层涂层的表征由DC反应磁控溅射合成的多层涂层
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:通过动态透明角度直流磁控溅射制造的富含氮的CR1-XALXN多层涂层
机译:CRN / CRALN / CR2O3多层涂层的表征DC反应磁控溅射合成的多层涂层
机译:直流磁控反应溅射制备多层光学镀膜