新型高电阻率镍基合金箔材研制

摘要

为满足电子器件制造的需要,研制了1种电阻率≥1.5μΩ·m,厚0.01mm,厚度公差±0.001mm的NiMoCrAlSiTi镍基高电阻箔材.合金成分设计采用多元少量原则,在提高电阻率的同时保持良好的加工塑性;在中间热处理、箔材轧制等环节采取有效措施保证了尺寸公差;用扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)对不同处理状态合金的显微组织、拉伸断口和析出相进行了观察分析,测试了不同状态合金的力学和电学性能,根据其结果决定采用冷轧+时效的最终热处理工艺,此工艺条件下合金析出弥散分布的二相粒子,对提高合金的电阻率有显著贡献,同时合金亦具有良好的加工性能.