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邓亚锋; 赵仁仲; 崔艳华; 刘效疆;
中国工程物理研究院电子工程研究所,绵阳621900;
RuO2薄膜; 雾化辅助化学气相沉积; 充放电性能;
机译:NH_3流量对常压化学气相沉积生长ZnO薄膜结构和光学性能的影响
机译:常压等离子体余辉中钌的碱辅助氧化钌合成RuO2纳米线
机译:水 - 甲醇比对雾化学气相沉积制备的二氧化钛薄膜结构,光学和光催化性能的影响
机译:基材对雾化学气相沉积纯锐钛矿相钛二氧化钛薄膜结构性能的影响
机译:常压二氧化氮激光诱导荧光计(AP-LIF)的研制以及AP-LIF在异质二氧化氮化学研究中的应用。
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:常压化学气相沉积法制备氟掺杂氧化锡薄膜的性能
机译:化学气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积技术制备碳 - 碳复合材料氧化保护体系的研究。
机译:常压化学气相沉积系统的感受器冷却方法和常压化学气相沉积装置
机译:常压化学气相沉积法沉积氧化硅
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