氮化铪在蓝宝石衬底上的镀膜研究

摘要

利用反应式磁控溅射镀膜系统在蓝宝石衬底上制备了氮化铪（HfxN）薄膜，系统研究了氮气流量fN和镀膜温度Ts对HfxN薄膜的物相组成、晶体结构和电学性质的影响。实验结果表明，在fN=3sccm时，可以在蓝宝石衬底上获得化学计量比接近1的HfxN薄膜，方块电阻为5．24Ω／sq；X射线衍射光谱（XRD）结果显示薄膜为岩盐结构的δ-HfN相；提高镀膜温度可以显著提高HfxN薄膜在蓝宝石衬底上的晶体质量，并且薄膜趋于（111）方向单晶生长；原子力显微镜（AFM）显示薄膜表面平整，均方根粗糙度Rq=0．193nm。