微电子学用高纯砷烷、磷烷或硅烷混合物中痕量杂质的气相色谱分析

摘要

介绍的分祈方法是测定含有H2或Ar的PH2，AsHa或SiH4混合气中的痕量O2，N2、CO、CO2和C1～C4的碳氢化台物。此法用化学法除去PH3、AsH3或SiH4，然后用气相色谱分离，在低温下用13X分子筛富集痕量成份，再用TCD和FID检测。检测极限估计Oz和N2为0．5vpm，CO和CO2为0.1vpm，碳氢化台物为0．01vpm。用同一个扑集柱进行吸附富集与解吸分离，可在同一个流程中，对所有感兴趣的痕量杂质进行分析。测量结果总的相对标准误差，估计在±22％左右。