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郭春付; 张传维; 李伟奇; 李晓平; 刘世元;
武汉颐光科技有限公司,武汉 430223;
华中科技大学 数字制造装备与技术国家重点实验室,武汉 430074;
华中科技大学 武汉光电国家研究中心,武汉430074;
测量与计量; 聚对苯二甲酸乙二醇酯; 复合衬底; 介质膜; 光谱椭偏; 膜厚;
机译:多次入射介质椭偏法测定聚合物薄膜的厚度和折射率
机译:多次入射介质椭偏法同时测定超薄膜的厚度和折射率
机译:沉积在玻璃和Si衬底上的真空蒸发Sn2m-4Sb4S2m + 2(m = 2.5、3和4)薄膜的结构和光谱椭偏研究
机译:X射线椭偏仪(XME):一种新颖的椭偏技术,可完全表征薄膜-基材系统
机译:基于光谱椭偏法的氢化硅薄膜太阳能电池的生长表征和光学建模。
机译:过去的宝藏VII:通过椭偏仪测量非常薄膜的厚度和折射率以及表面的光学性质
机译:用于生物传感和(光电)电子应用的纳米颗粒结构和薄膜的椭偏模型=用于生物和(光电)电子应用的纳米颗粒结构和薄膜的椭偏模型
机译:Gaas衬底上外延Gaas层的椭偏测量
机译:椭偏分析仪,样品椭偏分析方法和薄膜厚度变化量测量
机译:椭偏分析仪,椭偏分析仪,用于测量样品,测量薄层厚度变化的方法。
机译:椭偏分析设备,样本椭偏分析方法,以及用于测量薄层厚度变化的设备
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