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文黎巍; 裴慧霞; 王宇杰; 支联合;
周口师范学院物理与电子工程系,河南周口466001;
第一性原理; 吸附能; SiH; 反应机制;
机译:SiH_4 / GeH_4和Si(001)/ Ge(001)对初始解离吸附过程中气-面反应性影响的密度泛函研究
机译:在Ge / Si(001)-(2 x 8)和Ge / Si(105)-(1 x 2)表面上吸附和扩散的第一性原理研究
机译:在Ge / Si(001)-(2×8)和Ge / Si(105)-(1×2)表面上吸附和扩散的第一性原理研究
机译:Si(001)表面上O2的吸附和扩散的第一性原理研究
机译:吸附水对金红石型二氧化钛表面电场影响的第一性原理研究。
机译:Pd-SiO2界面上氢吸附的第一性原理研究
机译:阴离子对羟基化α-siO 2(001)吸附铀酰的影响:第一性原理研究
机译:二氧化甲基膦酸二甲酯在TiO2锐钛矿(001)表面吸附的第一性原理研究:形成稳定的钛氧基(Ti = O)位点
机译:MTS,SIH4:C2HCL3,SIH2:CL2:C2H2和SIH6:C2H2作为主要反应气体通过CVD在BN膜上形成SIC膜的方法
机译:SiH 1,SiH 2,SiH是聚硅氮烷,其峰为3和
机译:通过SIH相关的搜索门户站点提供服务集成首页的SIH服务器和SIH注册创建搜索应用和服务的方法和系统
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