SVM based layout retargeting for fast and regularized inverse lithography

著录项

• 来源
  《浙江大学学报（英文版）（C辑：计算机与电子）》 |2014年第5期|390-400|共11页
• 作者

  Kai-sheng LUO; Zheng SHI; Xiao-lang YAN; Zhen GENG;

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• 作者单位

  Institute of VLSI Design Zhejiang University Hangzhou 310027 China;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类 大规模集成电路、超大规模集成电路;
• 关键词