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垂直平面内氦原子(e,2e)反应中屏蔽效应的理论研究

     

摘要

运用3C模型和DS3C模型计算了入射能为70.6 eV几何条件下垂直平面内电子离化氦原子的三重微分散射截面,并把计算结果与实验结果进行了比较,系统研究了屏蔽效应对截面的贡献.结果表明:当散射角较大、敲出电子能量较低时,末态屏蔽效应对垂直平面内三重微分散射截面的幅度和角分布均存在较强影响.

著录项

  • 来源
    《皖西学院学报》|2013年第5期|49-52|共4页
  • 作者单位

    皖西学院基础实验中心,安徽六安237012;

    皖西学院材料与化工学院原子与分子物理研究所,安徽六安237012;

    皖西学院机械与电子工程学院,安徽六安237012;

    皖西学院材料与化工学院原子与分子物理研究所,安徽六安237012;

    皖西学院材料与化工学院原子与分子物理研究所,安徽六安237012;

    皖西学院材料与化工学院原子与分子物理研究所,安徽六安237012;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 碰撞与散射;
  • 关键词

    DS3C模型; 垂直平面; 屏蔽效应;

  • 入库时间 2022-08-18 02:31:12

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