压电陶瓷微位移的光干涉测量与控制系统

摘要

针对压电陶瓷的微位移检测,引入了基于多次反射的光路放大装置,有效提高了迈克尔逊干涉测量的分辨率.理论上分析了放大倍数、入射角和动镜定镜夹角的关系,并对光路的光学放大特性进行了仿真验证.同时搭建高精度光干涉位移测量系统,实现了压电陶瓷以22.6 nm为步长的驱动与检测.该装置结构简单、易于控制,可应用于光学滤波系统的精确调谐.