末端炔中C—H键的保护

摘要

在有机化学反应中常需要对分子中个别基团进行加工、改造;如所用试剂能够达到只在需要加工的部位进行反应,则表明该试剂具有较好的选择性。但在实际上很多试剂达不到这种选择性的要求。为了不使分子中一些活性基团受到影响,必须采取相应的保护方法。在炔属化合物末端炔RC(?)CH分子中,炔基上的氢原子具有较强的酸性,在金属有机合成中该氢原子的存在会影响反应的正常进行。