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王清辉; 谢柳杰; 许晨旸; 陈锐奇; 周雪峰;
华南理工大学机械与汽车工程学院,广东广州510640;
广东省智能制造研究所,广东广州510070;
曲面抛光; 材料去除; 摆线轨迹; 参数控制;
机译:基于粒子轨迹的晶片化学机械抛光材料去除率
机译:超声椭圆振动辅助化学机械抛光材料的材料去除模型,脆性材料
机译:一种新型的用于抛光模具曲面的圆头抛光工具及其机器人控制系统
机译:用软颗粒去除石英玻璃抛光工艺的材料去除机理和材料去除率模型
机译:电镀CBN砂轮和配对抛光的材料去除模型和预期寿命。
机译:往复式磁流变抛光材料去除模型研究
机译:石菖蒲化学机械抛光中si3N4旋转曲面工件材料去除率的实验研究
机译:连续研磨/抛光机中材料去除,去除率和preston系数的计算。
机译:具有椭圆形叶片轨迹的摆线转子和使用摆线转子控制飞机的方法
机译:作为曲面模型的生成方法,这是由于曲面模型的生成方法(由于可逆的舍入操作)和网格多边形模型的生成方法(基于曲面模型和记录介质,以运行这些方式)引起的,
机译:弯曲的曲面显示设备,弯曲的曲面模型生成器,弯曲的曲面划分处理器,弯曲的曲面擦除处理器和弯曲的曲面模型显示设备
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