射频磁控反应溅射制备TiO_2薄膜

陈浩; 李金泽; 厉以宇; 苏晓东

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射频磁控反应溅射制备TiO_2薄膜

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研究采用射频磁控溅射的方法在石英玻璃基片上制备TiO2薄膜的最佳工艺条件.薄膜的相组成和微观组织分别采用XRD、SEM和AFM来分析.实验表明:在450℃的基片温度下,使用0.8 Pa的工作气压和20∶2的Ar∶O2流量比可以获得单一锐钛矿相的TiO2薄膜.紫外光照射分解甲基橙的实验表明具有单一锐钛矿相的TiO2薄膜具有较好的光催化能力,可以有效降解有机分子.

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来源
《苏州大学学报：自然科学版》 |2010年第2期|51-55|共5页
作者
陈浩; 李金泽; 厉以宇; 苏晓东;
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作者单位

温州医学院眼视光学与视觉科学国家重点实验室培育基地;

苏州大学物理科学与技术学院江苏省薄膜材料重点实验室;

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正文语种 chi
中图分类无机质材料;
关键词
TiO2薄膜; 射频磁控溅射; 光催化;

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