多光点扫描数字光刻制作DOE的方法研究

摘要

在DMD(Digital Micromirror Device)数字光刻系统中使用微透镜阵列聚焦可在像面获得灰度点阵图形,若曝光的同时基底按预设计的方式同步扫描,则可形成所需求的曝光场分布.这一方法用于衍射微光学元件(DOE)制作,可方便快捷获得高质量的连续面形微结构.文中通过对扫描方式的分析和计算,给出了适于菲涅耳微透镜制作的基片台扫描参数和模拟结果,为用该系统进行DOE实际制作提供了依据.