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石墨烯薄膜的制备及性能分析

     

摘要

采用改进的Hummer's法和超声剥离法制备的氧化石墨烯经旋涂和滴涂工艺制备成膜,再经一步还原获得石墨烯薄膜.研究了氧化石墨烯经一步和两步还原制备出石墨烯后再经旋涂成膜的工艺.同时研究了不同分散剂对石墨烯的分散效果,分析了不同还原工艺对石墨烯薄膜方电阻的影响,并采用金相显微镜和扫描电镜观察分析了石墨烯薄膜的微观形貌.结果表明:旋涂法制备的石墨烯薄膜更均匀、透光率更高;DMF对石墨烯具有良好的分散效果;两步还原得到的石墨烯薄膜的导电性能明显优于一步还原.

著录项

  • 来源
    《沈阳大学学报》|2015年第1期|12-1629|共6页
  • 作者单位

    沈阳大学机械工程学院,辽宁省新型功能材料与化学工艺重点实验室,辽宁沈阳 110044;

    沈阳大学机械工程学院,辽宁省新型功能材料与化学工艺重点实验室,辽宁沈阳 110044;

    沈阳大学机械工程学院,辽宁省新型功能材料与化学工艺重点实验室,辽宁沈阳 110044;

    沈阳大学机械工程学院,辽宁省新型功能材料与化学工艺重点实验室,辽宁沈阳 110044;

    沈阳大学机械工程学院,辽宁省新型功能材料与化学工艺重点实验室,辽宁沈阳 110044;

    沈阳大学机械工程学院,辽宁省新型功能材料与化学工艺重点实验室,辽宁沈阳 110044;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 碳;
  • 关键词

    石墨烯; 薄膜; 制备; 旋涂; 方电阻;

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