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磁场在硅集成电路制造工艺中的应用

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摘要

分析了磁控直拉法技术和磁场增强型反应等离子刻蚀技术在现代半导体集成电路制造工艺中的应用.简要论述了学科交叉的重要意义.

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来源
《上海电力大学学报》 |2009年第4期|388-390|共3页
作者
赵雨; 陈东生;
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作者单位

上海电力学院数理系;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类磁学;微电子学、集成电路（IC）;
关键词
磁场; 半导体; 集成电路; 交叉科学;

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