2Cl2／20O2／Ar环境中Si3N4陶瓷的高温腐蚀

摘要

使用ｔｈｅｒｍｏｇｒａｖｉｍｅｔｒｉｃ分析和表面分析法，对２％Ｃｌ２／２０％Ｏ２／Ａｒ环境中Ｓｉ３Ｎ４陶瓷在１１５０℃和１３５０℃时的化学反应进行了研究，在１１５０℃，ＳｉＯ２层Ｃｌ２有少的渗透趋向，氧扩散穿过ＳｉＯ２层而发生反应，但在１３５０℃某些添加物和杂质，向表层和晶养扩散，且Ｃｌ２与Ｓｉ３Ｎ４的反应对腐蚀有较大影响。