一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法

陈志锦; 史峥; 王国雄; 付萍; 严晓浪

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一种快速光刻模拟中二维成像轮廓提取的新方法

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在一种新颖的快速光刻模拟算法的基础上 ,提出了一种新的基于稀疏空间点光强计算的二维成像轮廓提取算法 .该算法能够根据版图特点合理选择采样线的位置 ,有效地确定轮廓线存在的范围 ,并根据在采样线上光强单调分布的特性来快速地搜寻轮廓点 .实验表明 ,这是一种快速高效的轮廓提取方案 ,能够适应光学邻近校正中巨大的运算量 .

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来源
《半导体学报：英文版》|2002年第7期|766-771|共6页
作者
陈志锦; 史峥; 王国雄; 付萍; 严晓浪;
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作者单位

浙江大学超大规模集成电路设计研究所;

鞍山钢铁学院电子与信息工程学院;

华东地质学院信息工程系;

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正文语种 chi
中图分类 TN405.7;
关键词
光刻; 二维成像轮廓; 提取; 光学邻近校正; OPC; 集成电路;

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