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席珍强; 杨德仁; 陈君; 阙端麟; H.J.Moeller;
浙江大学硅材料国家重点实验室;
Institute for Experimental Physics;
TU-Freiberg;
Freiberg 09596;
Germany;
单晶硅; 铜; 沉淀;
机译:氧沉淀对直拉硅中铜沉淀的影响
机译:铜和镍的共沉淀对直拉硅中裸露区形成的影响*
机译:掺锗的直拉硅中的铜沉淀
机译:单晶硅空隙中硅化铜的沉淀。
机译:用于研究拟南芥叶肉原生质体中蛋白质-DNA结合的快速高效的染色质免疫沉淀方法
机译:直拉硅中铜沉淀和镍沉淀的研究
机译:罐内沉淀过程中铜的分析
机译:以预测单晶硅中产生的氧沉积行为的单晶硅中的氧沉淀行为预测方式,以单晶硅中的氧沉淀行为预测方式预测氧沉积行为
机译:用于测量单晶硅中的氧沉淀行为的P方法,用于制造硅单晶晶片的工艺确定方法以及具有用于测量单晶硅中的氧沉淀行为的程序的记录介质
机译:决定性的方式,以及计算单晶硅中的氧沉淀行为并记录程序记录介质的单晶硅晶片制造工艺
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