基于单元分类的CMOL常开缺陷单元容错映射

摘要

CMOS纳米分子混合电路(CMOS/nanowire/MOLeclular hybrid circuits,CMOL)在制造过程中会引入较高缺陷率,从而导致可用映射资源的减少.针对由此产生的映射困难问题,本文采用单元分类思想,对部分缺陷单元加以利用,以增加可映射单元数,进而提高映射成功率.首先根据单元缺陷类型的差异,将缺陷单元分为可用和不可用两类进行标记,然后对可用缺陷单元加以利用,并采用改进的进化算法完成单元容错映射.实验结果表明,与已有方法相比,新方法在运行效率和成功率上分别得到了19.17%和30.14%的提升.