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李亚东; 骆苏华; 高伟健;
苏州大学材料科学工程学院,江苏,苏州,215021;
中科院上海微系统与信息技术研究所,上海,200050;
苏州大学分析测试中心,江苏,苏州,215006;
PLD技术; Ti50Ni36Cu14; 合金薄膜; 成分均匀性;
机译:共振红外矩阵辅助脉冲激光沉积聚合物薄膜中的不均匀性的实验研究
机译:脉冲激光沉积制备镓掺杂氧化锌薄膜的均匀性
机译:由飞秒脉冲激光沉积的大面积DLC薄膜厚度均匀性的改变
机译:通过脉冲激光沉积制备半金属磁性氧化物薄膜的材料物理学:控制锶铁钼氧化物和铬氧化物薄膜的晶体结构和近表面性质。
机译:Cu(InGa)Se2薄膜中的空隙和成分不均匀性:生长过程中的演变以及对太阳能电池性能的影响
机译:关于大规模脉冲激光沉积的相关性:ZnO薄膜结构非均匀性的证据
机译:脉冲激光沉积法制备薄膜厚度均匀性的研究
机译:钼钛合金层的成分,改善了薄膜晶体管的液晶显示装置的驱动特性,并保持了膜层的均匀性,即使基体的尺寸很大并且用薄膜阵列制造的方法也是如此
机译:形成薄膜和发光器件的方法,能够通过脉冲激光沉积形成薄膜
机译:双目标同时脉冲激光沉积技术制造N和P型碳化硅晶体薄膜的方法及相同方法制造的薄膜
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