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胡增顺;
开封大学公共计算机教研部,河南开封475004;
BNTM; 铁电薄膜; 铁电性能; 化学溶液沉积;
机译:Bi3.15Nd0.85Ti2.97Mg0.03O12与Bi3.15Nd0.85Ti2.95Mn0.05O12共取代的钛酸铋薄膜的铁电性能比较
机译:中频反应磁控掺杂型y掺杂HFO2薄膜温度依赖性铁电性能研究
机译:用四乙基甲基氨基沉积原子层沉积HF <亚> 0.5 sum> Zr <亚>分析薄膜的铁电性能的比较研究前体
机译:原子层沉积法生长Hf(Zr)O 2 inf>薄膜铁电性能的研究
机译:稀土(Pi =铈,、,)取代的钛酸铋Pi(x)薄膜:合成,结构和铁电性能。
机译:四(乙基甲基氨基)和四(二甲基氨基)前体在原子层沉积Hf0.5Zr0.5O2薄膜中铁电性能的比较研究
机译:锶 - 钡 - 铌(sBN)薄膜的结构表征,介电和铁电性能铌酸锶钡(sBN)薄膜的结构表征,介电和铁电性能
机译:单层和多层液晶的结构和物理性质表现出块状铁电性能
机译:薄膜形成的设备和方法,极化反转的实现方法,铁电性能的测量方法,薄膜和电容器的结构
机译:能够改善铁电性能和压电性能的无铅压电薄膜及其制造方法
机译:一种改善SBT薄膜铁电性能的方法
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