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王欣; 高丽娟; 郑伟涛; 徐跃;
吉林大学材料科学与工程学院,长春,130023;
吉林大学分析测试中心,长春,130023;
FexN薄膜; 直流磁控溅射; 生长机制;
机译:倾斜入射磁控溅射沉积多孔金薄膜的生长机制:从致密到柱状微观结构
机译:在沉积速率的影响下,从单个DC磁控溅射沉积的季镍纤维薄膜的易于控制性能
机译:沉积功率和压力对DC磁控溅射生长钛薄膜速率沉积和电阻率的影响
机译:通过DC磁控溅射沉积的AG / SnO_2薄膜的生长沉积用于低发射率的沉积
机译:沉积参数与射频磁控溅射沉积氧化锆薄膜性能之间的关系。
机译:反应堆磁控溅射沉积p型缺铜Cu Cr0.95-xMg0.05 O2薄膜的光电性能
机译:通过DC磁控溅射沉积的Ag / SnO2薄膜的生长沉积用于低发射率应用
机译:用于HmC(混合微电路)应用的氮化钽,钛和钯薄膜沉积的DC磁控溅射系统的表征。
机译:磁控溅射枪和磁控溅射薄膜沉积装置
机译:磁控溅射系统及通过磁控溅射薄膜沉积的方法
机译:用于溅射沉积源的磁性装置,磁控溅射沉积源以及利用磁控溅射沉积源在基板上沉积膜的方法
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