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戚学贵; 陈则韶; 王冠中; 廖源;
中国科学技术大学工程科学学院,合肥,230027;
中国科学技术大学物理系,合肥,230026;
化学气相沉积; 金刚石膜; 气相化学; 相图;
机译:气相化学模拟法构建金刚石化学气相沉积C-H-N相图
机译:使用动力学蒙特卡洛模型和微波等离子体和热丝化学气相沉积反应器的二维模型模拟化学气相沉积金刚石膜的生长
机译:在低衬底温度下{100}取向CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第二部分C-H系统和含Cl体系中CVD金刚石膜生长的模拟
机译:新{111}的原子尺寸动力学蒙特卡罗(KMC)仿真 - 客户化的化学气相沉积(CVD)金刚石膜生长过程:两步生长
机译:使用蒙特卡洛方法通过化学气相沉积法对金刚石膜生长的计算机模拟。
机译:碳氢化合物的紫外激光光解以抑制金刚石膜化学气相沉积中的非金刚石碳
机译:通过3000°C的钽长丝的热灯丝化学气相沉积单晶金刚石(100)膜的高速率生长
机译:通过微波等离子体辅助化学气相沉积在高温下高生长率同质外延金刚石膜沉积
机译:化学气相沉积反应器通过微波等离子体化学气相沉积生长金刚石膜
机译:自支撑化学气相沉积金刚石膜和制备自支撑化学气相沉积金刚石膜的方法
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