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太赫兹时间分辨系统研究有机卤化物钙钛矿薄膜的超快太赫兹调制

     

摘要

研究了利用太赫兹时间分辨系统研究有机卤化物钙钛矿薄膜(CH3NH3PbI3 and CH3NH3PbI3-xClx)的皮秒尺度的超快太赫兹调制特性.在光激发作用下出现了太赫兹透射波的瞬时下降.相比于CH3NH3PbI3薄膜,在光激发作用下CH3NH3PbI3-xClx薄膜展现了更高的调制深度(10%).通过测算材料的电导率及载流子浓度,其调制机理为瞬态光激发载流子浓度上升.实验结果表明,CH3NH3PbI3-xClx薄膜可作为一种高效超快太赫兹调制器件.%Ultrafast terahertz (THz) modulation characteristics of organolead halide perovskite films (CH3NH3PbI3 and CH3NH3PbI3-xClx) were investigated on picosecond time scales using time-resolved THz spectroscopy.Upon photo-excitation,a transient decrease in THz transmission was observed.Compared with CH3NH3PbI3,CH3NH3PbI3-xClx showed a better modulation depth (10%) within the range of the photo-excitation powers used.The mechanism underpinning this photoconductive ultrafast response was determined by measuring the transmission properties and calculating the carrier density.The larger crystalline bulk of the CH3NH3PbI3-xClx film produced higher carrier densities than the CH3NH3PbI3 film.These results demonstrate that CH3NH3PbI3-xClx films are promising materials for developing high-performance THz modulators and ultrafast switchable THz photoelectric devices.

著录项

  • 来源
    《红外与毫米波学报》|2018年第5期|523-526532|共5页
  • 作者

    张波; 吕龙锋; 沈京玲;

  • 作者单位

    首都师范大学物理系北京市太赫兹波谱与成像重点实验室太赫兹光电子学教育部重点实验室北京成像技术高精尖创新中心,北京100048;

    北京交通大学光电子研究所发光与光信息技术教育部重点实验室,北京100044;

    首都师范大学物理系北京市太赫兹波谱与成像重点实验室太赫兹光电子学教育部重点实验室北京成像技术高精尖创新中心,北京100048;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 光谱分析;
  • 关键词

    太赫兹; 有机卤化物钙钛矿; 超快调制;

  • 入库时间 2023-07-25 20:02:33

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