亚波长浮雕结构的红外抗反射研究

摘要

基于等效媒质理论,对周期性浮雕结构的抗反射特性进行了分析和研究.给出了二维对称的抗反射浮雕结构等效光学参数的估算方法.提出了基于最小特征尺寸考虑的脊基和隙空的设计概念.利用离子束刻蚀工艺技术,在Si片上制备了一种两维红外抗反射浮雕图案.测试结果表明,这种表面结构像单层抗反射膜一样,具有很好的增透效果,表面结构的等效折射率相当于镀层材料折射率,而刻蚀深度则相当于镀层的1/4波长厚度.