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董立亭;
贵州大学电子科学系;
Monte; Carlo方法; 自由飞行时间; 散射机制; 亚微米半导体器件;
机译:高标准电场下具有Si nMOSFET的nMOSFET的Ge(111),(110)和(100)反转层中不同散射机制的比较
机译:SIC MOSFET中的主导散射机制:普遍移动性与理论计算渠道流动性的比较研究
机译:深亚微米Si / SiGe n沟道MOSFET中电流波动的研究:相关技术参数对热噪声性能的影响
机译:亚微米Si p-MOSFET的Monte Carlo模拟
机译:蒙特卡洛研究了低功率深亚微米n-MOSFET中的热载流子退化和器件性能。
机译:基于声子散射机理的超薄体FD SOI MOSFET导热特性研究
机译:si / si0.64Ge0.36 / si pmOsFETs中增强的速度过冲和跨导 - 深亚微米器件的预测
机译:亚微米mosfets运输。
机译:深度增强CoSi2形成形成深亚微米MOSFET中硅结的CoSi2深MOSFET MOSFET。
机译:通过缺陷诱导的cosi2在亚微米mosfet中制造Silizierter u00fcbergange-教育
机译:通过缺陷增强的CoSi2形成在深亚微米MOSFET中形成硅化物结
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