pH 值和缓冲剂对水热电化学沉积 HA/TiO 2涂层的影响

摘要

以微弧氧化后的钛合金为基体,采用水热电化学法制备了 HA/TiO 2涂层.利用 SEM、XRD 对涂层的表面形貌、物相组成进行了表征分析,通过 pH 微探针原位探测电极/电解液界面 pH 值的变化,研究了pH 值和缓冲剂对水热电化学沉积 HA/TiO 2涂层的影响.研究结果表明,微弧氧化膜有利于水热电化学沉积 HA,得到的 HA 晶体分布均匀、致密.当电解液pH 值在2~8时,pH 值升高有利于提高水热电化学沉积 HA 的结晶度,并促使 HA 沿(002)晶面生长.在水热电化学沉积 HA 过程中,电极表面的 pH 值随沉积时间的增加先升高后逐渐降低；而溶液中的 pH值随沉积时间的增加逐渐降低.pH 值和缓冲剂对涂层 HA 晶体形貌有明显影响,加入缓冲剂后得到的HA 晶体端面呈六边形棒状结构,晶体表面光滑、结晶完整.