首页> 中文期刊> 《功能材料》 >AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用

AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用

AI论文写作 >>

开具论文收录证明 >>

页面导航

摘要
著录项
引文网络
相似文献
相关主题

摘要

研究了AZ52ME反转光刻胶的性能并选择适当的工艺可制得利于剥离的倒台面,并将其应用于射频MEMS开关的制作中剥离厚2μm的金薄膜.用扫描电镜(SEM)测出胶的侧壁为倒台面.

著录项

来源
《功能材料》 |2005年第3期|431-433,440|共4页
作者
陈光红; 于映; 罗仲梓; 吴清鑫;
展开▼
作者单位

福州大学,电子系,福建,福州,350002;

福州大学,电子系,福建,福州,350002;

厦门大学,萨本栋微机电中心,福建,厦门,361005;

福州大学,电子系,福建,福州,350002;

展开▼
原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类微电机;
关键词
AZ5214E; 反转:剥离;

相似文献

中文文献
外文文献
专利

1. 光刻胶在二元光学元件制作工艺中的行为研究 [C] . 孔令彬 ,易新建 ,陈四海 . 第十五届全国激光学术会议 . 2001
2. 应用于MEMS器件的光刻胶剥离技术关键工艺研究 [A] . 樊继武 . 2016

获取原文

客服邮箱：kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备：11010802029741号 ICP备案号：京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有

客服微信
服务号