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刘文婷; 刘正堂; 许宁; 鹿芹芹; 闫锋;
西北工业大学材料学院,陕西西安710072;
磁控反应溅射; HfO2薄膜; 沉积速率; 光学性能;
机译:HfO2超薄薄膜的制备及HfO2 / SiO2 / Si界面结构的比较
机译:退火对HFO2薄膜光学性能的影响
机译:O-2 / Ar压力比对Al掺杂前后HfO2薄膜润湿性和光学性能的影响
机译:离子辅助对不同离子源对HfO2薄膜光学性能,残余应力和激光诱导损伤阈值的影响
机译:RF溅射法制备Si / Ingan异质结太阳能电池:改进氮化铟镓(IngaN)薄膜的电气和光学性能
机译:溶胶-凝胶法制备的云母基板上HfO2薄膜的电阻转换特性
机译:物理生长条件对溅射生长的HfO2薄膜的结构和光学性能的影响
机译:由Ta,W,GE和HFO2薄膜组成的光子纳米结构的电流热发射。
机译:处理薄膜的方法,特别是为了改变光学性能的薄膜,以这种方式制备的薄膜及其用途
机译:一种处理薄膜的方法,尤其是为了改变光学性能的薄膜,以这种方式制备的薄膜及其用途
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