含萘基的光抗蚀剂超薄膜的显影和光分解性质的研究

摘要

用LB膜技术将以十二烷基甲基丙烯酰胺（DDMA）为成膜物质，以甲基丙烯酸-β-萘酯（NPMA）为光敏感物质的共聚物（pDDMA-NPMA）在石英等基片上制成超薄膜，并用石英晶体微天平（QCM），AFM，FTIR对其显影过程及光分解机理进行了初步探讨。实验结果表明，光照前，pDDMA-NPMA薄膜对超纯水和四甲基氢氧化铵稳定，但能溶解于丙酮溶液中。用深紫外光照射后的样品，对超纯水稳定，但可在四甲基氢氧化铵显影，且显影效率随显影剂浓度的增大而增大。当用深紫外光连续照射时，在辐照的初期，共聚物中的萘被光诱导而发生拓扑化学反应，即光二聚，随着光照时间的增长，聚合物分子的主链和侧链发生氧化分解反应，生成易挥发的链碎片。