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张庆瑜; 陈斌;
不详;
沉积; 结构分析; 性能; 氮化钽; 薄膜;
机译:Cu / TaN /电介质/ Si MIS结构中通过射频溅射沉积TaN膜及其势垒性能
机译:TaN / a-CN _x多层膜的结构和力学性能
机译:氧等离子体处理形成铜互连的纳米结构TaN(O)/ TaN阻挡膜
机译:反应性溅射沉积TiN / TaN多层膜的结构和力学性能
机译:电渗析法对产出水进行脱盐:离子交换膜结垢,系统性能和有机成分的结局。
机译:期望的调制周期和比例下的纳米级ReB2 / TaN多层膜的界面模型和表征:第一性原理计算和实验研究
机译:用磁控溅射离子镀在WC-Co基硬质合金上沉积TaN涂层膜的性能
机译:钨合金的成分,结构,性能,热机械加工与弹道性能的关系
机译:芳香族成分-阻挡膜,使用该芳香族成分-膜的多层膜,芳香族成分-膜容器和增强芳香族成分-膜的性能的方法
机译:活性能量可固化的成分以及制备透明膜的方法,该透明膜即使在其表面上也具有精细的结构
机译:在规范的金属属中,规范成分的金属属中的溶液成分和用于稀土超导膜生产的溶液成分包括配置可以指向规范的配体,特定金属络合物的非晶态的金属配合物的结构包括金属配合物的溶液的生产方式,其结构可以指明规格的配体,稀土超导膜生产用溶液的生产方式以及超导薄膜的生产方式。
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