首页> 中文期刊> 《电子显微学报》 >TiAl中180°孪晶界面附近应力场的LACBED研究

TiAl中180°孪晶界面附近应力场的LACBED研究

         

摘要

TiAl中180°孪晶界面附近应力场的LACBED研究吴文涛,朱 静(治金部钢铁研究总院,北京100081)TiAl金属间化合物具有低密度、高熔点。较高的高温强度和持久强度等性能,在航空航天领域有广阔的应用前景,但其室温塑性差,断裂韧性低,裂纹扩展速...

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号