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赵风周; 崔雪峰; 王兵;
中国科学技术大学结构分析中心,合肥微尺度物质科学国家实验室,安徽,合肥,230026;
表面相互作用; 光诱导; C60; 扫描隧道显微术;
机译:吸附在SI(111)-(7X7)和SI(100)-(2X1)表面上的C-60的振动特性和电荷转移
机译:用X射线反射光谱研究n-Si(111),n-Si(100)和p-Si(111)单晶晶片表面上的天然氧化物
机译:通过吸附在Si(111)-(7x7)表面上的C-60膜的热反应来形成和生长SiC膜:C-60分子与SiC膜表面声子的键合性质
机译:Si单晶体表面(100)和(111)的原子取代方法外延生长的机制和在单晶中生长的Si膜的表面上的表面(100)和(111)
机译:吸附在二氧化硅表面上的丙酮的(13)C和(29)SI NMR研究(CARBON-13,SILICON-29)
机译:用于太阳能电池应用的平面Si(100)平面Si(111)和带纹理的Si(100)衬底上具有良好刻面的带纹理的ZnO的生长和表征
机译:(吸附在Si(111)-(7×7)表面上的th的核心能级发光研究::的价态和表面Si原子的电荷态
机译:si原子吸附在si(100)-2X1表面上的迁移
机译:Si100 / Si111硅蚀刻剂组合物表现出低Si100 / Si111选择性和低碳化硅蚀刻速率
机译:用于III-N外延的Si(100)晶片上具有Si(111)平面的纳米结构和纳米特征
机译:用于III-N表位的Si(100)晶片上具有Si(111)平面的纳米结构和纳米特征
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