吡嗪分子在硅(100)面吸附构型的XPS和NEXAFS谱理论研究

摘要

本文利用X射线谱研究了吡嗪(C4H4N2)分子共价吸附于硅(100)面的几种吸附构型的几何结构和电子结构.利用密度泛函理论结合团簇模型,对预测的吸附结构的碳K壳层(1s)X射线光电子能谱(XPS)和近边X射线吸收精细结构(NEXAFS)谱进行了模拟.计算结果阐明了XPS和NEXAFS谱与不同吸附构型的对应关系.与XPS谱相比,NEXAFS谱对所研究的吡嗪/硅(100)体系的结构有明显的依赖性,可以很好地用于结构鉴定.根据碳原子的分类,研究了在NEXAFS光谱中不同化学环境下碳原子的光谱成分.