荧光法测量光学元件亚表面损伤深度的实验研究

摘要

本文利用纳米级荧光量子点对光学元件亚表面缺陷进行标记,采用共聚焦荧光显微镜对聚焦表面进行逐层扫描,得到被测样品不同深度处的切片图像.通过特征点荧光强度的变化,定量表征了熔石英光学元件的亚表面损伤深度.结果表明,当扫描深度超过临界值时,最大荧光强度急剧下降,光学元件亚表面损伤深度可以通过量子点实际嵌入深度确定.考虑到破坏性检测方法能有效验证的无损检测方法,角度抛光、磁流变抛光实验在相同的条件下进行.结果表明,纳米级量子点对光学元件的表面缺陷具有良好的标注能力.此外,无损检测方法可以有效地评估熔石英元件的亚表面损伤深度.