光栅尺纳米测量技术研究及其发展

摘要

介绍了光栅尺纳米测量技术的国内外研究现状,并对它们优劣进行了分析,在上述成果的基础上,得出一种以光栅栅距为测量基准,测量精度主要取决于光栅栅线的刻制精度的光栅干涉测量方法,它受光源光强和波长变化的影响很小,因此在工况条件下能够具有较好的测量精度和稳定性,符合大量程、高分辨力、动态等纳米测量技术的发展趋势,最后对此测量系统将实现样机仪器化、产业化进行了展望.