美国SIGGRAPH’03盛会

摘要

2003年SIGGRAPH年会于7月27日～8月1日在美国西海岸城市圣地亚哥(San Diego)举行。ACM SIGGRAPH年会是SIG系列学术会议中参加人数最多，规模和影响最大的会议。它主要面向的是计算机图形学和交互技术．涵盖该领域的前沿方向和最新成果，代表计算机图形学的国际最高水平。整个会议分为4个部分：图形学技术教程(Course Section)，论文报告(Paper Section)，业界技术展览(Exhibition)和新技术报告(Sketch Report)。