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倪金玉; LEE ChoongHyun; 何慧凯; 赵毅;
中国电子科技南湖研究院;
CMOS集成电路制造工艺; 介质间隙填充; 流化学气相沉积; 选择性外延; 亚常压化学气相沉积;
机译:喷射气相沉积氮化物处理及其在先进CMOS器件中的应用,可减少栅极泄漏电流和硼渗透
机译:金属 - 有机化学气相沉积合成中石墨烯的Reaxff反应力场的研制与应用。金属 - 有机化学气相沉积合成
机译:催化化学气相沉积近膜晶体管制造技术的最新发展
机译:通过阈值电离质谱和直接仿真蒙特卡罗技术探测热线化学气相沉积中的热线化学气相沉积的自由基物种分布
机译:用于集成电路制造的化学气相沉积过程的研究。
机译:在冷壁反应器中通过化学气相沉积制造石墨烯封装的铜颗粒
机译:RTp系统:在化学气相沉积过程中监测碳纳米管形成的强大技术TpR系统:在化学气相沉积过程中监测碳纳米管形成的强大技术
机译:化学气相沉积在集成电路自动处理中的应用
机译:化学气相沉积技术中的原位等离子体预沉积晶圆处理,用于半导体集成电路应用以及使用该处理工艺制造的结构
机译:通过气相沉积(即化学气相沉积(CVD)或压缩化学气相沉积(LPCVD))以及气体注入器,同时在半导体制造过程中同时涂覆多个晶圆的工具
机译:用于半导体集成电路的化学气相沉积技术中的原位等离子体预沉积晶片处理
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