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K.L.Conway; 陶长远;
机译:氟化硼注入硅的快速热脉冲激光退火
机译:锗预非晶化植入物对多脉冲闪速退火后硅中硼失活的影响
机译:多脉冲准分子激光退火后硅中的硼分布
机译:离子注入后梯度带隙外延层HgCdTe的结构变化
机译:在Cdte / Si衬底上生长的Hgcdte的退火和器件表征。
机译:HgCdTe外延层的磁导率和太赫兹响应
机译:在脉冲准分子激光退火后模拟硅中的硼分布
机译:脉冲激光退火诱导离子注入硼的重新分布
机译:在CdTe衬底上生长的HgCdTe外延层上生长CdTe外延层的方法
机译:在半导体衬底上生长HgCdTe外延层的方法
机译:HGCDTE外延层中P-N结的制作方法
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