丝裂霉素C在超高度近视准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术中的应用

摘要

目的 探讨在超高度近视准分子激光角膜上皮瓣下磨镶术(LASEK)中应用丝裂霉素C(MMC)对角膜上皮下混浊(Haze)的影响.方法 将术中应用MMC的41例80眼超高度近视患者列为试验组,随机抽取术中未应用MMC的42例80眼超高度近视患者为对照组,术后定期随访观察2组角膜上皮愈合时间、视力恢复及Haze形成情况.结果 试验组患者术后不同时期Haze发生程度较对照组低,视力较对照组高,2组差异有统计学意义(P＜0.05).2组眼部刺激症状和角膜愈合时间差异无统计学意义(P＞0.05).结论 对超高度近视患者,LASEK术中应用0.02%MMC可减轻术后Haze的形成,未见明显不良反应.